? ?在集成電路封裝之前,晶圓要通過“背面減薄”工藝使之降低到最終所需的厚度。該工藝段需要大量的超純水進行沖洗,將極細小的硅粉顆粒帶走,同時冷卻晶圓,相應的從封裝測試車間產生廢水排放。此類廢水主要是由大量超純水、硅粉顆粒和膠體硅顆粒組成。有些情況下,生產工藝中可能添加少量研磨輔料。如果這些細小顆粒能被去除,那么即可獲得很低含鹽量(低電導率)的純水,因而可以進行回用。將這些水送回到超純水站作為中間純化或后段純化工藝段,可相應減少純水制備的費用,同時廢水排放處理費用也會相應降低。
? ?此項目來水被收集到均質槽內,然后被輸送到反應池。從該池內再被輸送到管式膜單元去做固液分離,濾過水被送往一個單獨的過濾水箱,暫存后送到后續反滲透系統。
? ?此項目采用管式膜系統作為反滲透進水的預處理,杜絕了因研磨廢水中含有尖銳的顆粒會切割破壞中空纖維,導致出現無法預期的劣質產水的情況發生,有效保護了后續工藝。
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